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X-선 반도체장치 전반사 X-선 분석 장치 TXRF 3760

X-선 반도체장치 전반사 X-선 분석 장치 TXRF 3760

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설명
X-선 반도체장치 전반사 X-선 분석 장치 TXRF 3760
· 특징
전반사 X-선 분석 장치 TXRF3760
- 분석 원소 : 11Na ~ 92U
- wafer size : up to 200mm
- 경원소 검출 가능 : Al, Mg, Na 분석 가능
- X-Y-θ stage 적용 (회절 peak의 간섭제거)
- 18kW high power generator
- 환경, 반도체 등의 극미량 오염 원소 분석 (ppt 단위)

· 상세 정보
TXRF3760은 X-Y-Θ의 시료 Stage 장치(특허 출원중)를 장착한 최첨단의 장치입니다.(특허내용: 컴퓨터 제어 변경 가능한 3개의 Monochromator 장치)
Vacuum환경하에서 robot에 의한 Wafer handling, 특허 출원중인 compact한 rotating anode X-선 발생 장치, 새로운 User-friendly한 구동 Software를 새로이 탑재한 장치입니다. 이러한 기능들은 보다 빠른 Throughput, 고정확도, 고 정밀 기능으로 산업 전반에서 Na부터 U까지 가장 넓은 분석 범위를 손쉬운 구동 Software로 가능하도록 했습니다.

이러한 기능들은 최적화된 Compact한 디자인으로 구현되었습니다. 특허 출원중인 새로운 Rotating anode 장치의 사용으로 인하여 Reliability가 놀랍도록 향상되었습니다. Anode는 기존의 Model보다 2배의 lifetime을 제공하고 있습니다. Front & back side panel을 통한 Maintenance는 기존보다도 아주 쉽게 구성되어 있습니다(side panel을 탈착할 필요가 없습니다). 이러한 Design을 통해서 TXRF3750 장비 바로 옆에 다른 장비를 설치할 수 있으므로 Cleanroom space를 획기적으로 줄일 수 있습니다.

· 제품 특징
  • 매우 신속한 분석 결과

  • 손 쉬운 Operation software

  • 컴팩트한 디자인

  • 높은 Power의 X-선 발생 장치

  • 세개의 Beam 구조

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X-선 반도체장치 전반사 X-선 분석 장치 TXRF 3760
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